中芯國際：14nm良率達業界水準、先進工藝已有10多款芯片流片

日前，中芯國際聯席CEO梁孟鬆博士在投資者調研會議上透漏了公司最新進展，特別是在先進工藝上的最新情況。

樑博士表示，14納米在去年第四季度進入量產，良率已達業界量產水準。隨着我們展現出的研發執行能力，客戶對中芯國際技術的信心也在逐步增強，我們將持續提升產品和服務競爭力，引入更多的海內外客戶。

我們第二代先進工藝技術n+1正在穩步地推進中，n+1正在做客戶產品驗證，目前進入小量試產，產品應用主要爲高性能運算。

相對於第一代先進技術，第二代技術平臺以低成本客製化爲導向，第二代相較於14納米，性能提高20%，功率減少57%，邏輯面積減少63%，集成系統面積減少55%。

總體來說，我們正在與國內和海外客戶合作10多個先進工藝流片項目，包含14納米及更先進工藝技術。

樑博士表示，我們相信，隨着5G、物聯網、教育和工作場所的資訊數位化的興起，集成電路行業將涌現巨大的市場機遇。

爲了推動公司的創新與發展，我們將持續推進研發工作，來服務並滿足客戶需求和不斷增長的數字消費市場，新專案、新節點的開展需要時間，我們將一步一腳印地穩步開發先進工藝技術 。