英特爾已完成第二臺High-NA EUV的組裝，ASML稱新款光刻機有更好的安裝設計

據TrendForce報道，ASML首席執行官Christophe Fouquet宣佈，英特爾已完成第二臺High-NA EUV光刻機的組裝工作。Christophe Fouquet表示，與普通的EUV光刻機相比，High-NA EUV光刻機不太可能出現延遲交付的情況，因爲這種設備可以直接在客戶的工廠組裝，無需經過拆卸再重裝的過程，可以爲客戶節省了時間和成本，有助於提升產品的交付速度。

英特爾院士兼光刻總監Mark Phillips表示，英特爾已經在波特蘭的工廠成功完成兩套High-NA EUV系統的安裝，速度超出了預期。第二臺High-NA EUV光刻機在組裝上實際耗費的時間比第一臺還要少，這得益於所需的必要基礎設施都已到位。

與此同時，用於High-NA EUV光刻機的光罩檢測工作已經按計劃開始進行，Mark Phillips稱英特爾無需做太多輔助支持工作即可將其投入使用。英特爾的目標是在2026年至2027年之間，讓Intel 14A工藝實現量產，外界普遍認爲High-NA EUV光刻機將是英特爾重新奪回技術領先地位的關鍵。在此之前，英特爾將繼續優化先進的工藝技術，以進一步提高性能和成本效益。

傳聞ASML手上已經收到了十多臺High-NA EUV光刻機的訂單，包括英特爾、臺積電、三星、SK海力士、以及美光。臺積電在上個月也接收了首臺High-NA EUV光刻機，移送至其全球研發中心進行研究，以滿足A14等未來先進工藝的開發需求。