首臺 High-NA EUV 曝光機交貨 英特爾明年試產新製程

ASML在社羣媒體中貼出首臺Ｈigh-NA EUV交貨至英特爾，設備大小跟貨櫃相去不遠。圖／翻攝自ASML社羣平臺X

艾司摩爾（ASML）在社羣媒體上貼出，第一臺高數值孔徑極紫外光（High-NA EUV）曝光機臺已經送貨到英特爾（Intel），代表英特爾18A機臺已經正式到位，明年第1季將可望順利進入試產，四年五節點製程計劃將持續執行。

ASML於昨日晚間在社羣媒體中貼出 High-NA EUV 曝光機臺已經送至英特爾，並貼出與公司員工的合影。據瞭解，High-NA EUV 曝光機將會被用在英特爾18A製程當中，該機臺一臺造價至少新臺幣50億元以上，大小等同於一臺貨櫃車大小。

英特爾接收該批設備後，預期將可望在明年第1季開始試產18A製程，最快將於明年下半年進入量產。業界指出，英特爾18A製程已經掌握數個電信及網通客戶，屆時將可望成爲支撐英特爾晶圓代工事業未來幾年營運動能。

據瞭解，英特爾在收到最新的 High-NA EUV 曝光機臺後，代表先前喊出的四年五節點計劃將持續推進。英特爾所謂四年五節點計劃，包含了先前的 Intel 7、Intel 4、Intel，以及後續的20A、18A製程，但由於歐美的高昂人力成本，將使客戶投片成本大幅增加，因此未來英特爾晶圓代工事業營運維持順利，外界都在抱持觀望態度。

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