《興櫃股》創控首秀FOUP監測解決方案 助升先進製程良率

創控表示，FOUP內的污染在半導體制程中是項嚴峻挑戰，晶圓從乾淨到受污染，過程涉及FOUP排氣、轉移到晶圓及FOUP可能再次受到污染等階段，過去因爲缺乏監測解決方案，污染物持續交換會放大影響，導致缺陷、良率下降和設備使用壽命縮短。

創控的微環境監測整合式解決方案，能精準協助客戶監控包括NH3、Amines、SO2、IPA、Toluene、Acetone、HF、HCl等常見污染。其中，MiTAP系列產品從環境監測、FOUP潔淨度確認到設備機臺內的污染管控，都有最符合經濟效益的解決方案核心產品。

創控深耕半導體制程AMC監控管理十餘年，深知客戶在廠務、設備、管理、品管等各方面會面臨到AMC困擾，除致力於提供客製化AMC監控解決方案，更因應產業發展預先投入新產品研發，超前部署市場需求。

隨着AI應用推動半導體先進製程投資，創控受惠先進製程對AMC監測的剛性需求，在先進製程對生產環境潔淨度要求更嚴格狀況下，亦持續研發新產品協助客戶解決更多痛點，盼爲AI趨勢浪潮扮演幕後推手角色，與半導體產業共創商機。