美禁令效應 ASML：中國買不到EUV 晶片技術落後15年

艾司摩爾執行長富凱表示，美國對中國禁止出口極紫外光（EUV）曝光設備，中國晶片技術將落後西方。（路透）

荷蘭半導體曝光設備大廠艾司摩爾（ASML）執行長富凱（Christophe Fouquet）日前接受媒體專訪時表示，由於美國對中國禁止出口極紫外光（EUV）曝光設備，導致中國無法獲得尖端曝光機，與英特爾、臺積電和三星等行業巨頭相比，中國晶片技術將落後西方10~15年。

荷蘭「新鹿特丹報」（NRC）報導，富凱指出，禁令確實會產生影響，畢竟ASML是一傢俬營企業。

這是自2024年4月富凱擔任ASML執行長以來，首次談及中國與海外半導體產業的差距。先前富凱還表示，世界需要中國生產的傳統晶片，將填補歐洲供需缺口，尤其中國廠商不可能造出先進曝光系統。

今年10月16日，ASML發佈2024財年第3季財報顯示，銷售額爲75億歐元（約78億美元），高於預期目標，主要得益於深紫外（DUV）曝光系統銷售和裝機售後服務增加，該季度毛利率爲50.8%，低於上一季度，淨利潤21億歐元。其中中國仍是ASML最大市場，佔第3季銷售額47%。

富凱表示，ASML擁有令人難以置信的市場地位，但也爲此付出代價：關注和外部壓力。這一點將繼續存在，中國、美國都將ASML視爲拼圖中的關鍵部分。他強調，「如果剩下幾個大公司，對創新來說會更好。我毫不懷疑三星將會復甦。競爭對手也希望看到英特爾再次表現出色。但如果犯的錯誤太多，就很難起來。英特爾的復甦對美國具有重要戰略意義。」

世界上幾乎90%的晶片都是由ASML曝光系統生產，隨着先進製程向5奈米及以下進化，EUV成爲未來曝光技術和先進製程核心，主要用於7奈米及以下先進晶片製造製程，ASML是唯一的供應商。

另外，巴隆週刊分析，中國晶片製造商已擬定策略，要在成熟製程上站穩主導地位，無論美國如何因應，都將對西方科技公司帶來風險。若美國將出口管制擴大到低階設備，ASML和其他晶片設備同業大部分收入將蒸發，衝擊成長和獲利能力。但若不擴大出口管制，包括德州儀器、意法半導體和格芯在內的西方成熟製程晶片公司，將可能受到直接傷害，面臨來自成本較低的中國晶片激烈競爭。