凌瑋科技申請光學薄膜用二氧化硅開口劑的製備方法專利,光學薄膜用二氧化硅孔容大、粒徑小、電導率低,有很好的開口性和透明性
金融界2024年7月2日消息,天眼查知識產權信息顯示,廣州凌瑋科技股份有限公司申請一項名爲“一種光學薄膜用二氧化硅開口劑的製備方法“,公開號CN202410265781.0,申請日期爲2024年3月。
專利摘要顯示,本發明屬於光學薄膜開口劑的技術領域,具體涉及一種光學薄膜用二氧化硅開口劑的製備方法,包括如下步驟;S1、保持反應釜A的溫度爲200~300℃、壓力爲0.3~1.0Mpa,將水玻璃溶液W1和硫酸F1同時注入到反應釜A中,並保持pH 0.5~2.0,形成二氧化硅溶膠;S2、將硅溶膠轉至反應釜B中,保持溫度爲15~25℃,同時乳化、分散,並調節pH爲10~12,再將水玻璃溶液W2和硫酸F2同時加入到反應釜B中,加完後升溫至80~100℃老化,調節pH爲3.0‑5.0,經陳化形成二氧化硅沉澱;S3、將沉澱洗滌,再進行溼法研磨;S4、對漿料進行噴霧乾燥即得。該方法合成的光學薄膜用二氧化硅孔容大、粒徑小、電導率低,在光學薄膜領域具有很好的開口性和透明性,已成功應用於光學薄膜領域。
本文源自:金融界
作者:情報員