力保半導體業 中國籲荷蘭「公平」輸出EUV光刻機

荷蘭半導體設備製造商艾司摩爾(ASML)。(圖/CFP)

記者陳政錄綜合報導

爲在美國科技封鎖背景下,力保本土半導體產業大陸商務部官員於16日舉行的中荷經貿混委會會議中,提出願在服務貿易電子商務領域擴大和荷蘭的合作,希望荷方華爲5G、EUV光刻機問題上秉持公平立場

光刻機係指所謂的極紫外光(EUV)微影設備,在大陸稱爲「極紫外光刻機」,在半導體業晶片生產過程扮演關鍵角色,在7奈米及5奈米、3奈米更先進的製程技術中所使用的光刻機,目前全球只有荷蘭大廠艾司摩爾(ASML)有能力生產。

▲大陸中芯國際力求製程技術突破急需從荷蘭進口先進的光刻機。(圖/CFP)

目前,大陸中芯國際宣稱完成7奈米的技術開發,計劃明年4月初步量產,力求突破美方的技術封鎖,因此荷蘭政府是否批准,向中國大陸出口更先進的EUV(極紫外光刻機)設備,尤其關鍵。

16日下午,大陸商務部副部長、國際貿易談判副代表俞建華與荷蘭外交部外貿發展合作大臣卡格,以視訊方式共同主持召開中荷經貿混委會第17次會議。

俞建華表示,當前中國正在加快構建以國內循環主體、國內國際雙循環相互促進的新發展格局,這將給中荷、中歐合作帶來機遇。他說,歡迎荷蘭企業擴大對華貿易投資,中荷雙方應繼續堅持多邊主義,積極推進全球貿易投資自由化便利化。

他進一步強調,中方願在服務貿易、電子商務等領域擴大合作,同時希望荷方在華爲5G、EUV光刻機等問題上秉持公平立場。

據大陸商務部訊息,卡格迴應,荷方重視中方市場,願與中方一道加強多邊領域合作,希望擴大服務貿易和電子商務領域務實合作,同時探討應對氣變、可持續發展等領域的合作機遇;另一方面,中荷雙方同意支持兩國企業籌建企業家委員會機制,並在明年初舉辦首屆中荷線上企業經貿交流會

針對光刻機議題美國政府在2018到2019年之間,就曾以「安全威脅」爲由,阻撓ASML向大陸企業出售EUV,因爲EUV被認爲是軍民兩用雙重用途產品;對此,中國駐荷大使徐宏於今年初接受《金融日報》專訪時表示,這不是一個簡單的技術性問題,這牽涉到荷蘭政府今後的政策取向問題,「我們(中國大陸)對這一點很關注。」

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