維普半導體:光刻機配套IRIS機臺交付國內某光刻機客戶
維普半導體今日官微消息,7月1日,維普光刻機配套IRIS顆粒檢測產品累計第5套順利發機,交付國內某光刻機客戶。IRIS模塊-即集成掩模檢測系統,是光刻機中的一個重要組成部分。其主要作用是對掩模版玻璃面、保護膜面顆粒進行檢測,消除因顆粒污染導致光刻後批量Wafer的失效,從而保障半導體晶圓製造的準確性和穩定性。
本文源自:金融界AI電報
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