日本首臺ASML EUV光刻機下月中旬運抵 用於Rapidus晶圓廠試產

《科創板日報》15日訊，日本先進半導體代工企業Rapidus購入的第一臺ASML EUV光刻機將於2024年12月中旬抵達北海道新千歲機場，這也將成爲日本全國首臺EUV光刻設備。根據Rapidus高管以往表態，該光刻機是較早期的0.33 NA型號，而非目前全球總量不足10臺的0.55 NA（High NA）款。 (日本經濟新聞)