國產光刻膠通過量產驗證

《科創板日報》15日訊，據“中國光谷”今日消息，光谷企業近日在半導體專用光刻膠領域實現重大突破：武漢太紫微光電科技有限公司推出的T150 A光刻膠產品，已通過半導體工藝量產驗證，實現配方全自主設計，有望開創國內半導體光刻製造新局面。該產品對標國際頭部企業主流KrF光刻膠系列。相較於被業內稱之爲“妖膠”的國外同系列產品UV1610，T150 A在光刻工藝中表現出的極限分辨率達到120nm，且工藝寬容度更大，穩定性更高，堅膜後烘留膜率優秀，其對後道刻蝕工藝表現更爲友好，通過驗證發現T150 A中密集圖形經過刻蝕，下層介質的側壁垂直度表現優異。