黃仁勳：Blackwell設計確有缺陷，現已修復，感謝臺積電

10月24日消息，美國當地時間週三，英偉達首席執行官黃仁勳表示，在長期製造合作伙伴臺積電的支持下，英偉達已成功修復了其Blackwell AI芯片的設計缺陷，該缺陷此前曾對生產造成了影響。

即便如此，這家人工智能芯片巨頭的股價在早盤交易中仍下跌了約2%。

英偉達於3月推出了Blackwell芯片，並宣佈計劃在第二季度進行發貨，但隨後遭遇了發貨推遲的情況，這可能對包括Meta、谷歌母公司Alphabet和微軟等客戶產生了一定影響。

黃仁勳承認：“Blackwell確實存在設計缺陷。雖然它是能夠正常運作的，但設計上的不足導致了成品率偏低。這完全是英偉達的責任。”

之前有傳言稱，生產延遲導致了英偉達與臺積電之間出現緊張關係，但黃仁勳對此進行了澄清，稱這些報道爲“假新聞”。

他進一步說明：“爲了讓Blackwell正常工作，我們從頭開始設計了七種不同類型的芯片，並且必須同時投入生產。臺積電在此過程中發揮了關鍵作用，幫助我們克服了產量上的困難，並以極快的速度重新加速了Blackwell的生產。”

英偉達Blackwell芯片採用了兩倍於該公司以往產品大小的硅片，並將兩片結合爲一個組件，因此在執行諸如爲聊天機器人提供答案的任務時，性能提升了30倍。

在最近高盛舉行的投資會議上，黃仁勳透露，這些芯片預計將在第四季度發貨。

此外，黃仁勳週三還在丹麥發佈了名爲Gefion的新型超級計算機，該計算機擁有1528個GPU（圖形處理單元），是英偉達與諾和諾德基金會（Novo Nordisk Foundation）、丹麥出口和投資基金共同合作建造的。（小小）